NEO 200A是Trymax半导体设备先进的去胶和蚀刻产品且为最小占地面积的单腔。
它是一个完全自动化的单腔系统且可以配置当前任何可用的Trymax NEO工艺模块，它与直径达200mm的衬底兼容并且这款小尺寸的NEO 200A配有两个上料台。
100/150/200mm衬底尺寸
双卡塞上料台
4轴双臂机器人操作
提供3种不同的工艺室：
微波下游（2.45GHz）
射频偏压（13.56 MHz）
双电源（微波、射频偏压）
CCP 顶级射频供电（13.56Mhz）
机台产量>>100wph
较小的占地面积
较低的拥有成本
全数字控制，设备网-以太网
基于Windows的工业计算机。
单槽冷却站
前后用户界面
Bulk resist, post LDI resist strip
预处理加工
聚合物去除
大剂量后植入条
氮化硅/碳化硅蚀刻应用
TaSi蚀刻
MEMS应用
高级包装加工（PR、PI、BCB、PBO）
射频滤波器BAW/SAW抗蚀处理
CE EU-RoHs
UL (可选)
SEMI S2-01
SEMI S8-01
