最新デジタル技術(EtherCAT®)を搭載したTrymaxプラットフォーム
デュアルプロセスチャンバー
可変照射コントロール
2基のオープンカセットステーション(サイズ検出システム付)または2基のSMIF
4軸ロボット
ユーザーインターフェイス(フロント&リア)
イオナイザー
ファブホスト制御 SECS-II
イオン注入前の光安定化
エッチング(Poly-Si, Oxide, Metal)前の光安定化
選択比改善
微細パターン用DUVレジストの硬化
薄膜磁気ヘッド用絶縁膜形成
化合物半導体リフトオフプロセスなど多様な半導体プロセスへの適用
SEMI S2-01
SEMI S8-01
CE EU-RoHs
UL規格(オプション)
ウエーハアライナー
ウエーハマッピング
冷却ステーション
バーコードリーダー
AGV and OHT
ウエーハアライナー(OCR読取一体)
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